ディメンジョンメトロロジー測定装置

Novaのスタンドアロン計測プラットフォームは、幅、形状、プロファイルなどの重要な寸法を高精度・高精度で特性評価するために利用されており、フォトリソグラフィー、エッチング、CMP、成膜など、最先端の技術ノードで、半導体業界をリードするすべてのお客様の工場の複数の領域で使用されています。

スペクトル干渉法 (SI) 技術を採用した Novaの新しい光 CD プラットフォームをご紹介します。NovaPRISM™ は、現在の製造プロセスで増加している多くの課題に対応できる独自の光学チャネルを提供します。 NovaPRISM™ は、最先端技術を最高の歩留まりと品質で提供することを可能にする、かけがえのない計測性能を提供します。

Novaの測定装置は、モデルベースのアプローチを採用しています。与えられたサンプルから得られた測定信号はモデル化された信号と比較されます。後者の信号は、物理的な電磁散乱問題に対するNovaの革新的な解（マクスウェル方程式の解）によって提供されます。このソリューションでは、サンプルとシステムのコンポーネントの両方が散乱体として扱われます。測定信号とモデル化された信号を比較すると、両者の差は、両方の信号が一致するまでサンプルのモデルを改良するために教育的に使用されます。

• 精度が高い
  物理モデリングは、このアプローチの開始時から可能な解の範囲が限定されているため、本質的に正確なサンプル記述を提供します。
• 物理現象的でない外れ値の除去。
  同じ理由で、物理現象的でない結果は本質的にフィルタリングされます。
• スピードアップ。
  物理的なモデリングでは、サンプルに関する以前の知識を簡単に説明することができます。これにより、解答が大幅に高速化されます。
• 物理的な結果。
  物理的モデリングは，その出力におけるパラメータが十分に理解された物理的意味を持っているため，他の計量ツール（ハイブリッド計量を参照）との直接的な接続を可能にする。

一般的な光学顕微鏡の光学分解能は、光の回折によってサブミクロンにまで制限されています。Novaの高度な画像処理アルゴリズムは、既知の形状を持つ素子の特性評価において、ナノメートル単位の精度まで大幅に向上させることを可能にします。これらの機能は、小さな測定サイト上での高精度な位置決めプロトコルに使用でき、再現性の高い測定を保証します。

高精度で必要な位置での測定を可能にするために、NOVAのシステムはin-situナビゲーションチャンネルと高度なパターン認識機能を実装しています。

Nova システムは、高度なパターン認識アルゴリズムを利用してウェハ上のシステム位置を特定します。これらのアルゴリズムの中には、特徴の形状のモデルを作成する幾何学的な概念を利用するものもあります。このようなアルゴリズムは、1画像あたりミリ秒の速度で、深いサブピクセル精度を可能にします。

すべてのNovaツールは大量のデータを生成します（例えば、すべてのHW操作のログ、警告やエラー、複数の測定サイトのスペクトルや解釈結果など）。
これらのデータを解析することが有益であることは間違いありませんが、情報量が非常に多いのです。これを解決するのにどうするか？NovaClusterはNova のビッグデータ製品のためのインフラストラクチャです。これにより、大量のデータの取り込みと処理が可能になります。